电子束蒸发的优点在于：
电子束的光斑可以随意调整，可以一枪多用，灯丝可以隐藏，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，维修方便，蒸发速度可以随意控制，材料分解小，膜密度高。机械强度好。溅射方式是用高速正离子轰击靶材表面，通过动能传输，令靶材的分子（原子）有足够的能量从靶材表面逸出，在产品表面凝聚形成薄膜。用溅射的方法制镀的薄膜附着性强，薄膜的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，但是对靶材的要求高，不能象电子枪一样节约资源。目前运用多的有磁控溅射，磁控溅射是指平行于阴极表面施加强电场，将电子约束在阴极靶材表面附近，提高电离效率。它是操作简单的一种，所以运用非常广。
说起镀膜机，大家耳熟能详，但是说起多功能真空镀膜机，可能会了解的比较少，那具体为什么叫多工功能镀膜机呢，是因为功能多吗？那下面为大家详细介绍一下
多功能真空镀膜机的技术和原理不管是真空镀膜机，还是多功能真空镀膜机工作环境，都是在真空环境下的，需要先抽真空，使真空室处于真空状态，再进行镀膜；镀膜完成后，需要向真空室充气。现有技术中，真空镀膜机的充气管道直接与外界连通，容易把外界空气中的灰尘带入真空室，导致镜片上吸附灰尘，造成产品不良，工厂里使用的镀膜机对于真空度的控制并不是很稳定，导致生产过程中产品的性能不够稳定，因此，解决生产过程中镀膜机里的真空度不易控制的问题尤为重要，而且内部镀膜物件的温度高，需要及时降温，提高工作效率。
引起镀膜玻璃膜层不均匀原因多方面
二次污染造成的洗净的玻璃在镀膜前需经过加热，抽真空和溅射等过程，而使玻璃再次污染，从而使玻璃镀膜后产生。玻璃加热过程中再污染是加热室或溅射室不干净，而对玻璃再污染，这些污染源主要来源于扩散泵返油、加热室或溅射室内脏、靶玻璃材溅射产生靶灰，残余气体压强高等诸多方面。因为一般的固体物质，每单位表面积上的分子数大约为10个左右，在常Pa的压强下，每秒钟撞表面的分子数大体上相当于覆盖物质积的分子数。在残余气体压强为10的情况下，假如以每秒一层原子左右的形成速度进行镀膜时，则蒸发的原子和残余气体的分子几乎是以相同的几率碰撞基片。在溅射过程中在充入气时压强为10～10时所形成膜的速度和蒸发条件下基本相同。