真空镀膜技术在光学仪器中的应用
人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪、以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等。它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。
一般光学仪器中的光学系统都由多个透镜组成，光线要经玻璃界面，会有相当多的光线被反射掉，透过的光线很少，影响光学仪器的光学效果。为了减少反射损耗，增大光线的透过率，往往在玻璃表面沉积增透膜来提高光的透过率。反射膜与增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或几乎全部反射回去。例如：光学仪器、激光器、波导管、汽车和灯具的反射镜都需要镀反射膜。反射膜有金属膜和介质膜两种。镀制金属高反射膜常用的材料有铝、银、金、铜等。为了提高金属膜表面的抗擦损能力，往往在表面镀一层保护膜，如SiO/SiO2/Al2O3。
在激光器和多光束干涉仪反射镜上，一般沉积低吸收、高反射的全介质反射膜。其结构是在基片上交替沉积光学厚度为λ/4的高、低折射率材料的膜层。
真空镀膜机真空的清洗方法,你知道吗?
真空镀膜机真空清洗一般定义为在真空工艺进行前，先从工件或系统材料表面清除所不期望的物质的过程。真空零部件的表面清洗处理是很必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源会使真空系统不能获得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。
一．真空加热清洗
将工件放置于常压或真空中加热．促使其表面上的挥发杂质蒸发来达到清洗的目的，这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中保留时间的长短、加热温度、污染物的类型及工件材料有关。其原理是加热工件．促使其表面吸附的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸作用增强。解吸增强的程度与温度有关。在超高真空下，为了得到原子级清洁表面，加热温度必高于450度才行．加热清洗方法特别有效。但有时，这种处理方法也会产生***。由于加热的结果，可能发生某些碳氢化合物聚合成较大的团粒，并同时分解成碳渣
二．紫外线辐照清洗
利用紫外辐照来分解表面上的碳氢化合物。例如，在空气中照射15h就可产生清洁的玻璃表面。如果把适当预清洗的表面放在一个产生臭氧的紫外线源中．要不了几分钟就可以形成清洁表面（工艺清洁)。这表明臭氧的存在增加了清洁速率。其清洗机理是：在紫外线照射下，污物分子受激并离解，而臭氧的生成和存在产生高活性的原子态氧。受激的污物分子和由污物离解产生的自由基与原子态氧作用．形成较简单易挥发分子．如H203、CO2和N2．其反应速率随温度的增加而增加．
真空镀膜机镀铝时,应该注意哪些事项
用真空镀膜设备镀铝膜，基本工艺流程为：预真空─离子清洗─镀铝─离子轰击─镀保护膜─放气。预真空对镀膜室抽真空至5×10，2Pa时，充入Ar气430mL，利用2个适当的电极间的低压辉光放电产生的离子轰击达到清洗和辅助预热镀膜基底的作用，轰击时间为150s;镀铝部分蒸发器快速升至高温，铝丝从预热、熔化、蒸发镀铝到镀铝完成的时间为30s多;采用二次离子轰击，去除膜表面粒状颗粒，使膜层更加致密，轰击时间为80s;镀保护膜时间为(200amp;plu***n;50)s，真空度为3amp;times;10?2Pa，由充入的硅油流量加少量Ar气来控制真空度，硅油流量由调节阀控制，直至放气结束。