东莞菱威纳米，立足、智能、绿色、服务的经营理念，充分利用开放式合作平台，为客户提供体验式技术服务，积极探索发展新模式，融入智造产业链整合。
真空镀膜 主要利用辉光放电(glowdischarge)将气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的气离子化，纳米镀膜，造成靶与气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀，纳米镀膜多少钱，基本的原理是在真空中利用辉光放电(glowdischarge)将气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。
由于派瑞林是气相沉积，它可涂覆于极细微的空间和孔隙。由于其分子级聚合作用，即一次一个分子附着于沉积表面，派瑞林涂层超薄，不会形成气孔，并能敷形涂布于元件上。派瑞林还能满足微小尺寸和极轻重量的装置的严格要求。任何用来保护微型装置的材料都不得影响其体积或重量。派瑞林不会显著增加质量——这对微型植入装置来说是非常关键的一个优势。
涂覆流程在一个受控真空条件下的密闭系统中进行。在整个流程中，沉积室与待涂覆件都保持处于室温条件下。涂覆流程中不使用任何溶剂、催化剂或塑化剂，也不需要固化过程或其他步骤。
菱威纳米采用环二体的真空化学气相沉积方法制备了不含有其它杂质成分的Parylene 派瑞林F薄膜，并对薄膜结构组成及性能进行了表征，得出了如下的结论:真空化学气相沉积方法制备的Parylene派瑞林 F薄膜组成元素主要是F和C，薄膜具有较高的纯度，且成膜不受工件形状的限制，从而扩大了其应用的范围;Parylene派瑞林 F薄膜具有比较高的介电强度和低的介电常数且热稳定性非常好，薄膜本身连续、致密、无孔，可以作为各种复杂形状的电子器件的保护膜使用。
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