真空镀膜机的真空室设计方法
真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或者化学方法，使物体表面获取所需膜体，真空镀膜技术根据其采用方法的不同科分成蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积以及分子束外延等，这次分析的镀膜设备采用的是磁控溅射镀膜。
真空室是真空设备的一个主要组成部位，真空镀膜设备真空室设计主要考虑的就是密封性和可靠性，结构必须要合理，真空设备的材料生产都是在真空室内进行的，材料对真空度的影响要小，设计不能马虎，要注意一些问题。
使用磁控溅射的真空镀膜机一般采用的是圆筒主体结构，结构上要保证快速抽空，因气袋会缓慢的放气，因此要避免出现隔离孔穴，真空系统上端会加装磁控溅射枪，为了使真空室和元件有足够的强度，保证在外部和内部的作用力下不产生形状的变化，厚度需要足够。
焊接是真空室制造中的一道关键工序，保证焊接之后的真空室不会产生漏气现象，须合理设计焊接结构，提高焊接质量，处在超高真空的内壁粗糙度要抛光使室外室内表面很光洁，须特别注意的是需做好防止生锈的措施。
真空镀膜机的全新发展真空泵与隔膜泵机械密封的安装与使用
真空镀膜机的发展相当迅速，随着生产率的提高，生产费用大大降低，已经为真空镀膜产品的普遍使用铺平了道路。
以卷绕式真空镀膜机为例，刚开发时可镀的薄膜基材宽度是150mm，目前已达2253mm。基材卷筒的大卷径是1000mm，大卷绕速度750m/min。自动装卸的半连续卷绕式真空镀膜机镀膜时间占整个周期的75%，辅助操作时间只占25%。随着计测技术、控制技术的进步和电子计算机的应用，卷绕式真空镀膜机正向着高度自动化和高度可靠性的方向发展。
真空镀膜机真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2，可以在这个范围内选择，有的还可以镀多层膜，满足多种需要。日本专利提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室分为上室，左下室和右下室。蒸镀时，两组蒸发源蒸发的镀膜材料分别沉积在塑料薄膜上，在塑料薄膜没有蒸镀的一侧，装上辉光放电发生器。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜，用于制磁带和薄膜太阳能电池等。
多片式比较片装置的设计特点
1)固定筒圆筒形状、大直径、厚壁结构的设计和周向对称的固定方式，可保证其有足够的强度和刚度，同时，还可阻止高温溅射磨料对其内部零部件污染，保证拨动盘转动的灵活性。
2)圆形轴承座的设计，保证轴承座安装的密封性和垂直度；增大轴的直径尺寸，加大轴承座中两轴承的安装间距，提高其自身的强度和刚度，保证转动过程中轴1的刚度和拨动盘的旋转灵活性、位置重复的一致性。
3)装载换位机构，通过扩大支承盘的直径，使该机构在平面方向的有效面积增大，可安装直径大(Φ26.5mm)的比较片，有利于光路调整，提高光学薄膜质量；比较片由单片玻璃作为一个比较片单元，比较片采用空间立体叠加安装方式，多片玻璃叠加安装在一个比较片存储筒内，实现一次可放置50~100片比较片，解决镀膜机镀制多层精密光学薄膜，比较片数量少影响镀膜层数和精度的问题。
4)***盘与槽型光藕的配合，通过槽型光藕来感知***盘上三个均分的120°狭缝，控制电机转动停止。轴1旋转***重复的一致性得到保证，带动拨动盘完成准确的拨片动作。
5)转动密封馈入机构引入威尔逊密封机构，既保证电机通过齿轮啮合带动轴的灵活转动，又保证真空室对外部的密封作用。优化设计的真空镀膜机多片式比较片装置，其特点：(1)结构简单，强度高，可靠性好；(2)比较片装载数量大，生产效率提高，可镀制超多层精密光学薄膜；(3)比较片直径增大，提高薄膜监控的精度，降低对硬件系统的要求，系统容易实现自动控制；
