真空uv镀武义县恒缘钛金厂是一家从事【uv镀膜】【UV真空镀膜】加工服务的厂家，主要镀膜产品有不锈钢，铁，铝合金，玻璃制品，塑料工艺制品等，镀膜颜色多样丰富，可根据客户的产品进行设计和定制。
恒缘钛金与您分享PVD离子镀膜优点
PVD离子镀膜具有如下优点：
A.膜层与工件表面的结合力强，更加持久和耐磨
B.离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件0v R0S4
C.膜层沉积速率快，生产效率高
D.可镀膜层种类广泛
E.膜层性能稳定、安全性高(获得FDA认证，玻璃真空uv镀加工厂家，可植入***).
恒缘钛金厂将竭诚为您提供优质周到的表面处理加工服务。欢迎您致电图片上方的联系方式。
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恒缘钛金与您分享镀膜中常见的几种离子源
离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。
阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，义乌真空uv镀，装饰工件。但应用于髙级光学镀膜并不太多。
考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。
霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。恒缘钛金厂将竭诚为您提供优质周到的表面处理加工服务。欢迎您致电图片上方的联系方式。
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恒缘钛金与您分享PVD镀膜能够镀出的膜层种类
PVD镀膜能够镀出的膜层种类，PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)，氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
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