什么是真空镀膜设备的虚漏及漏孔？
一、虚漏：
虚漏是由于设计或制造加工工艺不当，在真空镀膜设备内形成贮存气源的洞穴，这些气体在真空环境下慢慢释放出来，形同漏气，简称虚漏。
例如，真空镀膜设备内的紧固螺钉没有出气孔，焊缝交叉设计，焊接不完善留有孔穴等都会造成虚漏现象。
二、漏孔：
漏孔是真空镀膜设备内的电真空器件中直径微米数量级的小漏孔，空气中的尘埃或液体都很容易造成漏孔的堵塞，这些就算你当时修理好了也是暂时性的，检漏时好像不漏，但经过抽气之后，又会出现漏气。
所以为了检查，一定要仔细处理好检漏部位，尽量不用手去摸被检测区域，避免尘埃或油脂堵塞漏孔。
真空镀膜机的阴极电弧技术
真空镀膜机的阴极电弧技术是利用真空环境下的弧光放电，使固体阴极靶材蒸发、离化并通过等离子体的强化作用，飞向阳极基体表面沉积成膜的技术。正因为如此，阴极电弧技术具有极高的沉积速率。
在含有惰性气体或反应气体的真空环境下沉积在基体表面，具有高能量的离子束对于提高膜基结合力和打乱膜的柱状晶结构是非常有利的，从而也可大幅度改善膜的***结构和力学性能。目前，各薄膜设备制造商通过对成膜原理和工艺的研究采用各种不同的措施来减少“液滴”的产生。
其中BAI1200、RCS是采用圆形平面阴极源技术和辐射加热技术,可进行快速镀膜生产。利用该工艺制备的TiAlN可增强加工工具切削刃的稳定性，并使干切削加工成为可能。
真空镀膜机薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性：也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看（也即是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜机的均匀性现已相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也即是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。
2.化学组分上的均匀性：即是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的发生不均匀特性，SiTiO3薄膜，假如镀膜进程不科学，那么实践外表的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的份额，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技能含量地点。
3.晶格有序度的均匀性：这决议了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技能中的热点问题。