公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻是生产制造集成电路工艺和集成电路芯片微图型构造的重要加工工艺。其加工工艺品质立即危害着元器件产出率、可信性、元器件特性及其使用期等主要参数指标值。光罩是光刻工艺中的1个关键步骤，光刻版务必十分清洁，全部硅片上的电源电路元器件都来源于板图。假如光刻版不清洁，存有环境污染颗粒物，这种颗粒物就会被复i制到硅片表层的光刻胶上，导致元器件特性的降低。殊不知，光刻版在应用全过程中难以避免的会沾到尘土、光刻胶等空气污染物，这种空气污染物的存有立即危害到光刻的实际效果。为了确保光刻版清洁，务必按时对光刻版开展清理，而清理的实际效果与清理加工工艺及其各清理加工工艺在机器设备上的合理流动拥有紧密的联络。
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在半导体设备的全部步骤中，在其中部分就是以板图到圆晶（wafer）生产制造正中间的1个全过程，即光掩膜或称光罩(mask)生产制造。这部分是步骤对接的重要一部分，是步骤中工程造价***i高的部分，都是限定***i小图形界限的短板之首。针对数据处理方法关键来源于于加工工艺上的规定，在图像处理上带：1，立即相匹配光掩膜立即相匹配到板图的一层层，如金属材料层。2，逻辑运算光刻图型将会由1层或双层板图层逻辑运算而成。例如界定pplus与nplus相辅相成，假如只能pplus，nplus将由pplus开展逻辑性非的与运算获得。在具体解决中以翻转的方式保持。但是特别注意的是，在开展一些逻辑运算时，掩膜版，涂层的次序非常关键。与翻转与运算融合进，与运算的顺序也很关键。 
因为掩膜版是设计构思和生产制造的关键对接，圆晶生产商常有自身的技术***加工厂来生产制造本身必须的掩膜版，因而优i秀的掩膜版技术性都是把握在具备优i秀圆晶生产制造焊锡的晶圆厂手上。但近些年掩膜版业务外包的发展趋势十分的显著，非常是针对某些60nm及90nm左右焊锡的中低端商品。业务外包的掩膜版市场占有率从2003年里的30%升高至2014年的53%。
制版(多图)-温州掩膜版由苏州微麦光电有限公司提供。苏州微麦光电有限公司（）位于苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前苏州制版在其它中享有良好的声誉。苏州制版取得商盟认证，我们的服务和管理水平也达到了一个新的高度。苏州制版全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。