微弧氧化技术的发展
微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，先后得到***教委、***九五863高技术研究发展计划、***自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成***“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过***教委和863***组的联合***鉴定。2002年微弧氧化设备获得******新产品证书，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明专利。3、允许温度变化范围宽，电解液允许的温度范围一般为10-70℃。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源
微弧氧化技术特点
（1）氧化膜具有陶瓷结构特征。
（2）原位生长。
（3）氧化膜均匀增厚。
（4）无污染：无环保限制元素加入，基本无废水排放。
制备工艺简单。
（5）表面硬度高，显微硬度在400至1500HV；
（6）耐磨损性能与硬质合金相当；
（7）耐腐蚀性能：盐雾试验铝合金1000－2000小时 ；镁
合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。
（8）耐热性能：300℃水中淬火35次未见变化，1300℃
冲击5次不脱落、不龟裂。
（9）绝缘性能：膜厚不同,表面电阻达 109－12Ω
。微
不同电泳工艺所得膜层的截面形貌
（a)直接电泳电泳层表面高低不平，与基体间存在明显的分界线，且界面处有大量气孔.
（b)微弧电泳电泳层嵌入微弧氧化陶瓷层的微孔，具有了机械咬合力，膜层间的结合力强。
直接电泳有机层的附着力差，经划圈试验有机层已部分脱落，附着力等级仅为4级； 微弧电泳复合膜层的附着力等级为1级，相对于直接电泳有机层的附着力有很大提高
