日照微弧氧化电源(图)-表面微弧氧化技术-微弧氧化技术

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，表面微弧氧化技术，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，微弧氧化技术，若时间足够长，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。

微弧氧化采用较高的工作电压，将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域。采用该技术可在铝、镁合金表面生长一层致密的陶瓷膜，微弧氧化技术 参数，这层保护膜 与基体结合力强、尺寸变化小，耐磨损、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘性能得到极大改善，手机壳微弧氧化技术，在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线

微弧氧化电源性能指标

微弧氧化电源采用***的双极性大功率脉冲电源，具有效率高、运行稳定、噪声低、对电网干扰小等优点。微弧氧化电源已获得***发明专利，其特征在于采用多重电网滤波器和变压器隔离的三相平衡供电，利用功率开关元件进行斩波变换，获得脉冲宽度连续可调的大功率正、负脉冲。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化图片、微弧氧化技术设备