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刷镀铜溶液

铜是呈粉红色的金属，相对原子质量为63. 54。铜镀层塑性较好，易抛光，便于机械加工。镀铜溶沉积速度较快，在需要沉积厚镀层时所起的作用大。另外，铜镀层比起其他镀层来有较特殊的性能，一是改善导电性，二是改善钎焊性，三是防渗 于碳或渗氮作用。

　　(1)高速铜 高速铜溶液呈深蓝色，pH =1.5。由于其有较高的的沉积速度，主要用在快速***尺寸 磺酸和填补凹坑等大厚度的镀层上。镀层平滑致密，但大电流作用下，镀层性能变坏，晶粒粗大，另外镀液供应一定要充足，如有供应不足，则要烧焦镀碱式碳酸铜搅拌下滴加磺酸至碳铜正好溶解。由于反应剧烈并有许多二氧化碳气 在低E体生成，所以滴加速度一定要慢，东莞纳米镀膜厂，不能过快。剩下来的碱式碳酸铜稍加热溶解，深圳镀膜厂，并用蒸馏水稀释，*** 件如田磺酸和碳酸铜来调节 .

　　(2)碱性铜 碱性铜溶液呈蓝紫色，pH =9.7。镀层细密，电镀设备沉积速度较慢，在铝、铸铁类材料上刷镀时效果较好，另外在夹心层上应用较广泛，是防碳、防氮化以及在改善材料表面钎焊性和导电性方面是较理想的镀液品种。除了在铝、锌等材料直起镀外，建议在钢上先用特殊镍打底，而在疏松材料如铸铁上则要用快速镍先打底后再用碱性铜溶液刷镀。

　　(3)高堆积碱性铜 高堆积碱性铜溶液呈蓝紫色，pH =9，是一种沉积速度快，镀厚能力很强的一种镀铜溶液。由于该镀液偏碱性，对金属基体腐蚀性小，在快速镀厚、填补凹坑及电路标卜的电路修复方面应用广泛。

　　(4)半光亮铜 半光亮铜溶液呈蓝色，pH =10电压操作情况下，其镀层晶粒细密，既可作为工作镀层也可作为装饰性镀层

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，镀膜供应商，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

组分均匀性:

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，镀膜，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性:

1。晶格匹配度

2。 基片温度

3。蒸发速率

溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。