微弧氧化的陶瓷膜较阳极氧化膜在防腐蚀、耐磨性、电绝缘性和装饰性等方面都有明显的改善和提高，但并不意味着微弧氧化就属于市场的专有产物。事实上，微弧氧化正体现出非常明显的普及趋势。微弧氧化技术的原理及特点微弧氧化技术是近十多年来国际国内兴起的高新技术，是材料表面改性的一种重要方法。微弧氧化由于具有工艺简单、占地面积小、、效果强、适合规模生产，又对环境污染小，因此目前在诸多行业都处于蓬勃发展的时期。可以预见在未来的轻金属领域，微弧氧化工艺也将会迎来大规模应用的时代。微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化电源
微弧氧化的原理
微弧氧化通过让氧与铝结合，使铝合金（轻质但硬度、耐蚀性不足）表面原位生成一层氧化铝陶瓷，使其表面变得质硬且耐蚀，进而达到了延长材料使用寿命的目的。3、允许温度变化范围宽，电解液允许的温度范围一般为10-70℃。同时，微弧电子学又是一种新型‘***’技术，通过负电性等离子体对材料进行纳米尺度选取剥离，实现以非接触式方式加工出精密零件，具有广阔的应用前景。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源
微弧氧化技术特点
（1）氧化膜具有陶瓷结构特征。
（2）原位生长。
（3）氧化膜均匀增厚。
（4）无污染：无环保限制元素加入，基本无废水排放。
制备工艺简单。
（5）表面硬度高，显微硬度在400至1500HV；
（6）耐磨损性能与硬质合金相当；
（7）耐腐蚀性能：盐雾试验铝合金1000－2000小时 ；镁
合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。
（8）耐热性能：300℃水中淬火35次未见变化，1300℃
冲击5次不脱落、不龟裂。
（9）绝缘性能：膜厚不同,表面电阻达 109－12Ω
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