常用的光学镀膜有哪些？
二，光学薄膜
减反射膜是应用广、产量大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技术中重要的研究课题，研究的***是寻找新材料，设计新膜系,改进淀积工艺,使之用少的层数，简单、稳定的工艺，获得尽可能高的成品率，达到理想的效果。对激光薄膜来说，减反射膜是激光损伤的薄弱环节，如何提高它的***强度，也是人们关心的问题之一。
反射膜
它的功能是增加光学表面的反射率。反射膜一般可分为两大类，一类是金属反射膜，一类是全电介质反射膜。此外，还有把两者结合起来的金属电介质反射膜。
一般金属都具有较大的消光系数，当光束由空气入射到金属表面时，进入金属内部的光振幅迅速衰减，使得进入金属内部的光能相应减少，而反射光能增加。消光系数越大，光振幅衰减越迅速，进入金属内部的光能越少，反射率越高。人们总是选择消光系数较大，光学性质较稳定的那些金属作为金属膜材料。在紫外区常用的金属薄膜材料是铝，在可见光区常用铝和银，在红外区常用金、银和铜，此外，铬和铂也常用作一些特种薄膜的膜料。由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能，所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。金属反射膜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽；缺点是光损耗大，反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高，可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层，组成金属电介质反射膜。需要指出的是，金属电介质反射膜增加了某一波长（或者某一波区）的反射率，却***了金属膜中性反射的特点。
AF防***真空镀膜机防***处理的工艺流程：
（1）使用弱碱性清洗剂或溶剂去除基材表面油分、水分等污迹，通过超声波清洗效果更好;（2）将AF药液镀在产品表面成膜;（3）烘烤：喷涂后取出玻璃，放入烤箱（120度，30分钟），视具体要求及产品情况调整至良好;（4）清洁：产品清洁后，成品包装。
AF防***真空镀膜机特点和应用领域:
（1）防污性：防止***及油污不容易粘附、轻易擦除；（2）防刮伤：表面滑顺，手感舒服，不容易刮花；（3）膜层薄：优异光学性能、不改变原有的纹理；（4）耐磨性：具有真度耐磨性能
AF防***真空镀膜机的品质：
（1）擦伤测试及水滴角指标：（2）初始水滴角115-120度，（3）擦伤测试（#0000钢丝绒、1KG压力、10*10MM摩擦接触面积、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、（4）摩擦次数2000次）后，水滴角108-116度。（5）表面硬度以日本旭硝子玻璃钢化盖板为例，9HMax.铅笔硬度。
真空镀膜技术优点
镀层附着性能好：普通真空镀膜时，在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层，好似截然分开。而离子镀时，离子高速轰击工件时，能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生,可见附着多么牢固，膜层均匀，致密。
绕镀能力强：离子镀时，蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动，因而凡是有电场存在的部位，均能获得良好镀层，这比普通真空镀膜只能在直射方向上获得镀层优越得多。
因此，这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝。等其他方法难镀的部位。用普通真空镀膜只能镀直射表面，蒸发料粒子尤如攀登云梯一样，只能顺梯而上；而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中，带电离子则好比坐上了直升飞机，能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。
镀层质量好：离子镀的镀层***致密、无孔、无气泡、厚度均匀。甚至棱面和凹槽都可均匀镀复，不致形成金属瘤。象螺纹一类的零件也能镀复，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高?
磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高？ 这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。 通常在健身过程中，经过加速的入射离子轰击靶材阴极表面的时候，会产生电子发射，而这些在阴极表面产生的电子开始向阳极加速进入负辉光区，和中性气体原子进行碰撞，产生的自持的辉光放电所需离子。电子在平均只有程随着电子能量的增大而增大，随着气压的增大而减小，特别是在远离阴极的地方产生，它们的热壁损失也是非常大的，这主要是因为其离化效率低。 因此可以加上一平行阴极表面的磁场就能够将初始电子限制在阴极范围内，能够有效的增加气体原子的梨花效率，从而提高磁控溅射镀膜设备的溅射效率。
