影响镀膜机磁控靶点火电压的几个因素
气体压力对点火电压的影响：在磁控靶溅射镀膜工艺过程中，由于磁控靶的阴-阳极间距一经确定就是一个大体不变的值，工作气体的压力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范围内变化可能会对点火电压产生较大的影响，总的变化趋势为：随着工作气体的压力的逐步增大，磁控靶点火电压相应降低。不同的磁控靶、不同材质的靶材，靶启辉点火的工作气体压强不尽相同。
电源对点火电压的影响：在同等条件下，选用射频靶电源比选中频或直流靶电源，磁控靶阴极点火电压和工作(溅射)电压都会要降低;选用射频、中频正弦半波或脉冲靶电源，比选低频率同类波形靶电源，阴极点火电压和工作(溅射)电压均会要降低;
汽车灯保护膜机的应用有哪些
汽车灯保护膜机用于汽车灯保护膜，为汽车、摩托车灯具而设计的，在真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜。本设备采用了***的等离子体聚合保护膜技术，配备电阻加热蒸发系统，实现了汽车灯具铝反射膜和聚合保护膜一次完成的生产及技术要求。根据汽车灯具的生产特殊性，设备配置了PLC全自动控制系统，提高了生产效率、保证了产品质量。所镀制的等离子体保护膜通过汽车灯具***标准检测，过到了耐酸、耐碱、耐盐试验等标准。应用范围：专用于各型汽车车灯反射镜镀制金属铝反射膜和透明保护膜，尤其是汽车前大灯生产的专用镀膜设备。
蒸发真空镀膜机的原理及性能,你了解多少?
今天至成镀膜机真空小编要为大家讲的是蒸发真空镀膜机的原理和性能，前一段时间还有一个新人问我这方面问题，今天我就把我的知道的阐述出来，和大家一起成长和提升。
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。用作真空蒸发镀的装置称为蒸发镀膜机。
镜面塑胶模具涂层设备
近年来，有镜面要求的塑料产品越来越多，比如液晶电视的底座、面框、甚至后盖。这就给对应的镜面模具提出了很高的要求，也带来了很多的烦恼：制造成本高，使用寿命短，甚至在做表面清洁时都会刮花模具，反复抛光耽误生产且成本高昂……通过镜面塑胶模具涂层设备镀膜可以很好的保证模具的镜面效果（蚀纹/咬花面的效果也一样可以完全保持）；也正因为如此，如果模具表面镀前有乱花、白点等异常，我们的涂层不可能将其掩盖，所以在涂层前需要保证模具表面已经达到使用的要求。