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湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,工厂空气净化工程,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
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4、光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点
A、无尘车间的
洁净度:
LCD制屏的简略流程为:清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。
在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间,其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间,其洁净度一般为万级或十万级。
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20世纪60年代的洁净工程在美国、欧洲等发达***顺应各行各业产品生产和科学实验活动的需要得到了广泛应用,工厂空气净化工程报价,可以认为是洁净工程的大发展时期。美国在1961年诞生了国际上早的洁净室标准即美国空程条令203,并把编制联邦***标准的任务交给了原子能的出版机构;1963年底颁布了个部分的联邦标准即FS-209,从此联邦标准"209"就成为国际通行的、的洁净室标准; 1966年颁布了修订后的FS-209A,1957年前苏联颗人造上天后,美国***加速发展宇航事业、精密机械加工和电子工业,这些都要求具有受控空气洁净的生产环境,从而带动洁净工程及其设备制造的大发展,1961年单向流洁净工程和100级洁净室的建立,更促进了洁净工程的进一步发展。
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