柔性电子卷绕真空镀膜设备
HCFLC系列卷绕镀膜设备为各种各样的柔性和可穿戴电子产品，传感器，RFID标签，智能玻璃，智能包装等提供了一种非常有竞争力和成本效益高的薄膜涂层技术。高质量低电阻率铜或TCO层和结构的应用，在满足当今和未来市场需求的同时，成功地弥合了生产率和多功能性之间的差距。
HCFLC系列是生产和研发的良好选择。几乎无限的可能性，在安排多达六组可旋转的旋转器和机器的能力，应用大量的现场测量传感器，使机器能够在生产环境中生产，同时又是非常灵活和灵活的，当作为一个研发机器使用。
这也使得该机成为诸如ITO膜、柔性印刷电路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等应用的。可旋转磁控管，涂层宽度为2000毫米，可能的衬底辊直径为500毫米，是高生产率的基础。
此外，相邻工艺段之间的可选气体分离允许在一个过程中沉积各种各样的金属和电介质层。
除了能够在非反应溅射工艺的同时运行反应溅射工艺外，HCFLC系列还可以配备各种原位传感器，用于连续、准确地监测所需的物理层特性，如层电阻率、反射率或透射比。
什么样的真空镀膜层比较好真空磁控溅射镀膜机的电气控制系统介绍
据了解，2012年***真空镀膜设备达43亿，真空镀膜商场在敏捷扩大，一同也反映出咱们的物品的请求与质量越来越高，为满意消费者需求，许多需求对商品进行镀膜的厂家都购买了真空镀膜设备。真空镀膜设备镀膜细密，均匀，能够让厂商出产出来愈加美丽的，愈加经用的的商品来适合商场。
咱们判别一款镀膜设备的好坏首要是从以下几个方面来说判别的。个方面是设备镀膜是不是细密，是不是均匀。一个一款设备镀膜细密，均匀，那么毋庸置疑这款设备即是一款十分好的设备，一款能够遭到厂家期待的设备。镀膜细密，均匀的设备能够出产出来愈加美丽，愈加经用的商品，美丽的，经用的商品是消费者所喜爱的。已然消费者喜爱这类商品，那么厂家就会从商品中获利。厂家就能够商品中获利，从镀膜细密，均匀的商品中获利，就自然会愈加的注重镀膜细密，均匀的出产。会投入愈加的精力在出产镀膜细密，均匀的商品上。而公司要出产出来镀膜细密，均匀的商品就需求有一个能够镀膜细密，均匀的设备。所以从这一点上就能够看出好的设备，镀膜细密，均匀的设备才是厂家所需求的。
***镀膜有啥准则？
A：取稳辟险宁可做欠好不行出问题
B：先轻后重细盘可抛好就不必粗盘
C：质效并重保质保量下合理优化计划
D：主次分明相对状况下辨明主次方针清晰
E：不行胡来办法窍门很首要
pvd镀膜设备镀出的膜层出现异样,是什么原因
之前有少数客户会咨询我们，为什么PVD镀膜设备镀出来的膜，偶尔会出现异样的情况，问具体是什么原因。经过我们技术人员***检查排查，原因各有不同，下面真空小编为大家讲解真空镀膜不良解析。
随着消费水平的提升，人们对产品外观要求也越来越更高，PVD镀膜的应用也越来越广泛。PVD镀膜设备也获得越来越多的制造业厂家认可和喜爱，它的优势也是显而易见的。大家都知道机器，真空镀膜是把金属或者金属氧化物变成气态的分子或原子使其沉积在镀件表面形成镀层的一种技术。和传统的电镀技术相比污染更小、能耗更低，所需的成本较低，装饰效果和金属感都比较强。但是大家也都知道它的缺点，PVD电镀工艺不良率高、生产效率低、膜后不稳定以使颜色稳定性差等，这是整个行业的痛点。随着后期技术不断的发展，环保要求门槛不断提高，传统电镀逐渐将被替代及消费者对产品外观的提高，真空镀膜技术在未来会有更广阔的发展前景。
镀膜行业发展的趋势
当今镀膜行业制作方式主要有两种，一种是化学气象沉积，一种是化学镀膜（CVD），一种是物***象沉积，也就是真空镀膜（PVD）。
化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应所需其他气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学薄膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀层表面杂质多，镀出来的效果不好。
化学镀膜需要的反应温度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基体材料是无法受此高温，及时硬质合金，虽然能经受高温，但在化学镀膜制作的环境下由于高温也会造成晶粒粗大，引起脆性相，性能变坏。如果在硬质合金上镀TiN，晶体扩散出来的碳会与溶液发生反应形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，造成刀具使用寿命缩短。
真空镀膜机很好的解决了化学镀膜产生的一系列问题。真空镀膜是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电技术，利用其他放电是靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及反应产物沉积在工件上。
所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生***或污染物质，镀出来的膜层硬度更高，耐磨性和腐蚀性好，性能更稳定。真空镀膜工艺处理的温度可以控制在150℃~500℃以下，适用于多种基体材料，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高2~10倍。