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镀膜原理
阴极真空磁控溅射的特点:膜层厚度均匀、镀膜速度快、基板温度低。溅射镀膜利用2个原理:辉光放电、连续撞击。溅射过程是建立在气体放电基础上的,放电从低压下开始的,气体离子与靶材相互作用,离子不断的撞击靶表面,靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片(玻璃)上沉积下来,B级车灯杯,凝结成一层薄膜。
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :
靶功率;磁控溅射本身粒子初始动能比较小,离化率低,电源功率越大,溅射出的粒子的初始能量越大,靶材溅射量也越大,沉积速率越快,膜层容易上厚度和硬度,同时工件温升也大,过高的功率会使沉积速率太快,粒子来不及表面迁移和扩散,易形成阴影效应,膜层会比较疏松,应力较大。
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普通真空镀膜时,蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀,在工件表面与镀层之间,形成的界面扩散深度通常仅为几百个埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。而离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能。当其高速轰击工件时,B级车灯杯哪里有,不但沉积速度快,B级车灯杯生产厂家,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特别牢。
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