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膜厚检测
膜厚试验是应用于在线膜厚测量，测氧化物，SiNx，感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度，光干涉法是一种无损，***且快速的光学薄膜厚度测量技术，薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。
检测目的：检测镀层、膜层的厚度
检测范围：金属镀层、氧化物层、涂层、电镀层等厚度
测试方法
1.磁感应测量膜厚试验方法
2.电涡流测量膜厚试验方法
3.萤光X射线装置（XRF）测量膜厚试验方法
4.X射线衍射装置（XRD）测量膜厚试验方法
参考标准
GB/T 4957-2003 非磁性基体金属上非导电覆盖层 覆盖层厚度测量 涡流法
GB/T 4956-2003 磁性基体上非磁性覆盖层 覆盖层厚度测量 磁性法
ASTM E376-06 用磁场或涡流(电磁的)试验法测量覆层厚度的标准操作规程
ASTM B659-08 非磁性基体金属上非导电覆盖层 覆盖层厚度测量 涡流法
ASTM B499-09 用磁化法测量磁性基底金属材料的非磁化涂层厚度的试验方法
我们赛特检测经过数年的积累和发展已建设成为一个集试验技术研究与应用、试验检测与分析、试验设备研制为一体的综合性检测服务机构。遵循“公正、科学、准确、***”的准则，依照IEC、ISO、IEEE、MIL、ASTM、J-STD、GJB、GB、SJ等国际、国内标准，为企业提供***检测技术服务。
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