温度对微弧氧化的影响
微弧氧化与阳极氧化不同，所需温度范围较宽。一般为10—90度。温度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且温度高，会形成水气。溶液温度为20～度为20～50℃微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放，所以液体温度上升较快，微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。所以微弧氧化过程中一定要控制好温度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源
微弧氧化技术的应用
微弧氧化膜由于具有抗磨损、耐腐蚀、高介电和隔热等特性，应用在许多领域。如，航空、航天、汽车、船舶、机械、石油、化工、、电子等行业。微弧氧化突破传统阳极氧化的限制，利用电极间施加很高的电压使浸在电解液中的电极表面发生微弧放电现象，电压的高低是影响微弧氧化的主要因素之一。尽管微弧氧化技术已经在这些方面有些应用，并且呈现新的应用前景，但是推广应用的力度还不够，这里包括技术和经济等多方面原因，有待于我们进一步深入研究。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线
微弧氧化技术是近年来发展起来的一种铝、镁合金表面陶瓷化处理技术，它是铝、镁合金在电解液中通过高压电场作用下的放电火花烧结，在其表面生成一层由α-Al2O3 和γ-Al2O3为主要成分并与基体形成冶金结合的氧化铝（或氧化镁）陶瓷层，氧化铝（或氧化镁）陶瓷层的高硬度、高阻抗和稳定性满足铝、镁合金防海水腐蚀和高温热蚀以及改善其耐磨性等。微弧氧化技术特点1、可处理任意大小工件可处理任意大小工件（超小，超大）可进行细长管（可处理任何长度工件）复杂异形件（如深盲孔内部）特殊材料特殊性能膜层制备等高难度研究工作。
