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湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
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光学微电子行业净化工程设计方案分析
对于常规电子厂房洁净室空调的设计，应根据电子厂房的生产工艺要求及甲方的经济条件来选用哪种空调设计方案，以满足生产工艺的要求作为前提。根据以往经验，对于要求高的可以选用组合式空气处理机组集中处理的空调方案;对于要求不高的，实验室净化工程费用，又要初***低的，可以选用柜机 FFU。总之，具体的方案选择根据具体情况而定。
净化工程中空气净化处理方案
●净化工程中各级空气洁净度的空气净化处理，均应采用初效、中效、高1效空气过滤器三级过滤。100000级空气净化处理，实验室净化工程公司，可采用亚空气过滤器代空气过滤器。
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●空气过滤器的选用布置和安装方式，应符合：初效空气过滤器不应选用浸油式过滤器；中效空气过滤器宜集中设置在净化空气调节系统的正压段；空气过滤器或亚空气过滤器宜设置在净化空气调节系统末端，高1效空气过滤的安装方式应简便可靠，实验室净化工程收费，宜检漏和更换；中效、亚、空气过滤器宜按额定风量选用；阻力、效率相近的空气过滤器宜设置在同一净化车间内。
●确定集中或分散式净化空气调节系统时，应综合考虑生产工艺的特点和净化车间空气的洁净度等级、面积、位置等因素。凡生产工艺连续、无尘室或净化车间面积较大时，位置集中以及噪声控制和振动控制要求严格的洁净室，宜采用集中式净化空气调节系统。
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