离子镀膜设备的操作规范是怎样的?
离子镀膜设备的操作规范是怎样的？ 1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合GB/T6070的规定。 2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。 3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱 4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。 5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。 6、合理布置加热装置，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。 7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设计应使工件膜层均匀。 8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有***非正常放电装置，维持工作稳定。
真空镀膜机真空器件的常用检漏方法
真空镀膜机真空器件的常用检漏方法 依据电真空器材的结构特色及丈量精度要求，常用的有两种检漏办法，即氦罩法和喷吹法（这两种检漏办法具体介绍可见：氦罩法和喷吹法的氦质谱检漏仪检漏常见办法）。检漏时，先用氦罩法进行总漏率的测定，当总漏率超出答应值后再用喷吹法进行漏孔的认位。 氦罩法是被检件与检漏仪衔接抽真空到达检漏状况后，用一个充溢氦气的查验罩，把被检件全体或部分的表面面包围起来，如图4所示。查验罩充氦时先将罩内空气排出再充氦，以确保罩内氦浓度尽可能挨近100百分之，被检件上任何地方有走漏。 检漏仪都会有漏率值改变，显示出漏率值。氦罩时刻也要继续3~5倍检漏仪呼应时刻。A***192T2氦质谱检漏仪反应时刻小于0.5s,因而氦罩时刻30s即可。氦罩法可方便地测定被检件总漏率，不会漏掉任何一处漏点，但不能确认漏孔方位。 喷吹法是将被检件与仪器的真空体系相连，对被检件抽真空后用喷枪向漏孔处吹喷氦气。当有漏孔存在时，氦气就经过漏孔进入质谱仪被检测出，喷吹法弥补了氦罩法不能***的缺点。
真空蒸发镀膜常用的两种镀膜方法
常用的两种镀膜方法 1，真空蒸发镀膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸发结晶于镜片表面的方式。离子辅助镀膜是指蒸发过程中，微粒离子化，增加均匀性和附着力和氧化程度的方法。 2，溅射式镀膜，是利用高电压电离某些气体，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到达一定程度喷射出来的镀膜方式。离子溅射镀膜是指在溅射能量来源为离子，并且微粒飞翔过程中有明显离子状态，并使用磁场控制其飞翔轨迹的镀膜方式。
真空设备系统的简单介绍
真空设备系统的简单介绍 真空设备系统是由什么组成的呢？今天我们就来为大家简单介绍一下。 (1)主泵：在真空系统中，用于获得所需要真空度来满足特定工艺要求的真空泵，如真空镀膜机中的油扩散泵就是主泵。 (2)前级泵：用于维持某一真空泵前级压强低于其临界前级压强的真空泵。如罗茨泵前配置的旋片或滑阀泵就是前级泵。 (3)粗抽泵：从大气压下开始抽气，并将系统压力抽到另一真空泵开始工作的真空泵。如真空镀膜机中的滑阀泵，就是粗油泵。 (4)维持泵：在真空系统中，气量很小时，不能有效地利用前级泵。为此配置一种容量较小的辅助泵来维持主泵工作，此泵叫维持泵。如扩散泵出口处配一台小型旋片泵，就是维持泵。
