离子镀膜设备的操作规范是怎样的?
离子镀膜设备的操作规范是怎样的？ 1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合GB/T6070的规定。 2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。 3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱 4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。 5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。 6、合理布置加热装置，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。 7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设计应使工件膜层均匀。 8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有***非正常放电装置，维持工作稳定。
磁控镀膜机的溅射方式有哪些
磁控镀膜机的溅射方式有哪些 下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。 主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种：(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积. 现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点. 直流溅射发展后期,人们在其表面加上磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法. 而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材等现象. 而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.
真空镀膜机中钨丝的注意事项
真空镀膜机中钨丝的注意事项： 钨在常温下有较好的耐酸、碱能力，但在潮湿的空气中易被氧化，所以细钨丝不能在潮湿环境中贮存过久。另外钨在1200℃上下就开始与碳起反应生成钨的碳化物，所以对灯丝的烧氢处理要注意这个问题，否则钨与其表面的石墨润滑剂起反应，则灯丝就要变脆断裂。 钨丝一旦经高温使用发生再结晶以后就变得很脆，在受冲击或震动的情况下极易断裂。在一些要求高可靠性的电光源产品中，为防止灯丝的断裂，常在掺杂钨丝中加入3～5％的铼，称为钨铼丝，它可以使钨的延脆转变温度下降到室温或室温以下。这是一种很奇特的铼效应，至今还未发现一种元素能代替铼，在钨中产生同样效应。
