真空镀膜机的真空室该如何设计呢?
真空镀膜机相比大家都存有疑惑，今天来讨论一下的是关于真空镀膜设备真空室的设计问题，要是您有兴趣了解的话可以和宝瑞钛金一起来看看下面的内容。
真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或者化学方法，使物体表面获取所需膜体，真空镀膜技术根据其采用方法的不同科分成蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积以及分子束外延等，这次分析的镀膜设备采用的是磁控溅射镀膜。
真空室是真空设备的一个主要组成部位，真空镀膜设备真空室设计主要考虑的就是密封性和可靠性，结构必须要合理，真空设备的材料生产都是在真空室内进行的，材料对真空度的影响要小，设计不能马虎，要注意一些问题。
镀膜行业发展的趋势
当今镀膜行业制作方式主要有两种，一种是化学气象沉积，一种是化学镀膜（CVD），一种是物***象沉积，也就是真空镀膜（PVD）。
化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应所需其他气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学薄膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀层表面杂质多，镀出来的效果不好。
化学镀膜需要的反应温度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基体材料是无法受此高温，及时硬质合金，虽然能经受高温，但在化学镀膜制作的环境下由于高温也会造成晶粒粗大，引起脆性相，性能变坏。如果在硬质合金上镀TiN，晶体扩散出来的碳会与溶液发生反应形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，造成刀具使用寿命缩短。
真空镀膜机很好的解决了化学镀膜产生的一系列问题。真空镀膜是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电技术，利用其他放电是靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及反应产物沉积在工件上。
所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生***或污染物质，镀出来的膜层硬度更高，耐磨性和腐蚀性好，性能更稳定。真空镀膜工艺处理的温度可以控制在150℃~500℃以下，适用于多种基体材料，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高2~10倍。
适合于真空对洁净环境的要求
适合于真空对洁净环境的要求 工业环境中的粉尘是以粉状体、眼无题、粉尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的集合或分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒的集合，而颗粒是指能够一个一个计数的微小物质。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。物质无论是固体还是液体，凡是呈颗粒状态均可统称为尘粒。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准，从而定制出洁净室的等级。不仅适合于有洁净要求的工业部门，也适合于真空对洁净环境的要求。
维修真空镀膜机一定要按照步骤操作
维修真空镀膜机一定要按照步骤操作 首先我们要保证镀膜机与地面充分接触，扩散泵和油增压泵加热前必须接通冷却水并开维持泵。扩散泵和增压泵停止工作，维持泵半小时后才能关，1小时后断水，但泵内未冷却至80℃以下时，不得切断冷却水，以防止泵芯烧毁。 扩散泵和增压泵各留有备用水出口，若镀膜机故障或停电必须开备用出口让其冷却扩散泵和增压泵，镀膜工作前必须接通全部设备冷却进水，以防止电极和基体材料烧毁。设备各传动转轴真空密封处均采用“骨架式油封”密封形式，骨架式油封内间均充以饱和油蒸汽压很低的真空油脂和扩散泵油。使用一段时间即会损耗，必须以相同的真空油脂和扩散泵油充入，决不能用其他油品代替。
