在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空镀膜技术初现于20世纪30年，四五十年开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。
当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5% 会被反射掉，在光学中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至 1.5%，多层增透膜则可让反射降低至 0.25%，所以整个如果加以适当镀膜，光线透穿率可达 95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色 。
真空镀膜的特点是什么？
1.真空镀膜可以在固态基体上镀制金属，合金，半导体薄膜及各种化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范围内调控。
2.真空镀膜可以镀制高纯度，高致密度，与基体结合力强的各种功能薄膜拜。特别是各种金属五金产品，大规模集成电路，小分子有机显示器件等很多器件所需的主体薄膜只能在真空条件下制备，其他制模技术无法满足要求。
3.真空镀膜对环境无污染，特别是PVD方法。
4.真空镀膜是需要有真空设备来完成的镀膜，所以成本比较高，但真空镀膜产品耐磨性好，耐腐蚀，环保，产品可过ROHS测试。
PVD镀膜技术在锁具行业基材上做表面改性装饰与耐用效果。水电镀无法做到的，真空技术几乎都可以实现各种颜色效果，环保工艺。而且锁具加工真空镀膜技术加工在整体显得大气，让人类生活多姿多彩。
真空PVD镀膜技术在手机外壳/中框及配件
手机外壳与及中框、摄像头保护圈，槽，音量按键，电源开关键等装饰件在不锈钢基材上采用真空PVD镀膜技术，加强使用耐磨硬度和颜色多种选择。
