企业资质

沈阳鹏程真空技术有限责任公司

普通会员5
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:辽宁 沈阳
联系卖家:董顺
手机号码:13898863716
公司官网:www.pengchengzk.com
企业地址:沈阳市沈河区凌云街35号
企业概况

沈阳鹏程真空技术有限责任公司是由集科、工、技、贸为一体的高新技术企业。公司业务部主要分为太阳能发电领域事业部和科学仪器事业部两大部门。太阳能发电领域事业部以致力于光伏发电系统集成研究、光伏设备研发生产为主导。鹏程真空光伏部与国内外多所高校、电力设计研究院、业内企业及相关生产企业建立了战略合作伙伴关系......

进口化学气相沉积设备公司价格合理

产品编号:1979197085                    更新时间:2020-10-17
价格: 来电议定
沈阳鹏程真空技术有限责任公司

沈阳鹏程真空技术有限责任公司

  • 主营业务:电阻热蒸发镀膜,磁控溅射,激光脉冲沉积,电子束
  • 公司官网:www.pengchengzk.com
  • 公司地址:沈阳市沈河区凌云街35号

联系人名片:

董顺 13898863716

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产品详情






化学气相沉积的应用

现代科学和技术需要使用大量功能各异的无机新材料,这些功能材料必须是高纯的,或者是在高纯材料中有意地掺入某种杂质形成的掺杂材料。但是,我们过去所熟悉的许多制备方法如高温熔炼、水溶液中沉淀和结晶等往往难以满足这些要求,也难以保证得到高纯度的产品。化学气相沉积法不但能制备出各类金属晶须,同时也能生产出化合物晶须,比如氧化铝、金刚砂、碳化钛晶须等等。因此,无机新材料的合成就成为现代材料科学中的主要课题。

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化学气相沉积技术在材料制备中的使用

化学气相沉积技术生产多晶/非晶材料膜:

化学气相沉积法在半导体工业中有着比较广泛的应用。比如作为缘介质隔离层的多晶硅沉积层。在当代,微型电子学元器件中越来越多的使用新型非晶态材料,这种材料包括磷硅玻璃、硼硅玻璃、SiO2以及 Si3N4等等。对基于PECVD技术的硅基薄膜的沉积而言,如果能够深刻揭示其沉积机理,便可以在保证材料优良物性的前提下,大幅度提高硅基薄膜材料的沉积速率。此外,也有一些在未来有可能发展成开关以及存储记忆材料,例如氧化铜-氧化铜等都可以使用化学气相沉积法进行生产。

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化学气相沉积的特点

化学气相沉积法之所以得到发展,是和它本身的特点分不开的,其特点如下。

I) 沉积物种类多: 可以沉积金属薄膜、非金属薄膜,也可以按要求制备多组分合金的薄膜,以及陶瓷或化合物层。

2) CVD反应在常压或低真空进行,镀膜的绕射性好,对于形状复杂的表面或工件的深孔、细孔都能均匀镀覆。

3) 能得到纯度高、致密性好、残余应力小、结晶良好的薄膜镀层。由于反应气体、反应产物和基体的相互扩散,可以得到附着力好的膜层,这对表面钝化、抗蚀及耐磨等表面增强膜是很重要的。

4) 由于薄膜生长的温度比膜材料的熔点低得多,由此可以得到纯度高、结晶完全的膜层,这是有些半导体膜层所必须的。

5) 利用调节沉积的参数,可以有效地控制覆层的化学成分、形貌、晶体结构和晶粒度等。

6) 设备简单、操作维修方便。

7) 反应温度太高,一般要850~ 1100℃下进行,许多基体材料都耐受不住CVD的高温。采用等离子或激光辅助技术可以降低沉积温度。

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