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CVD真空镀膜厂家的TAC膜层特点及应用:本公司为客户提供质高价优的镀膜服务,真空镀膜,镀制的主要膜层有TAC(金刚石膜),这种膜层有以下性能:
TAC膜层的特点:
1. TAC(类金刚石)膜层有很高的硬度(HV6000),真空镀膜厂,优良的耐磨性能,摩擦系数极低(低至0.08),膜层厚度1-2um
2. 具有优异的耐蚀性,能耐各种酸、碱等腐蚀。
3. 对金属、塑料、橡胶、陶瓷等均有良好的抗粘结和防咬合性能
4. 表面粗糙度低(可达镜面级)
5. 与基体结合力很强,可以在各种钢铁、钛合金、铝合金、硬质合金等材料上沉积
pvd真空镀膜真空镀膜
pvd真空镀膜的功能原理是什么?
pvd真空镀膜的原理主要是物***相沉积,其是当前国际上广泛应用的***的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。
pvd真空电镀具有沉积速度快和表面清洁的特点,pvd真空镀膜,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。
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PVD镀膜加工
PVD镀膜加工在影响产品质量的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)中,人是位的。PVD镀膜故障的发生都与操作工***技能和工作责任心有关。PVD镀膜生产管理人员对操作工指导和监督不力,这些在PVD镀膜企业较普遍存在的状况,PVD镀膜使得故障在所难免。要减少PVD镀膜生产故障,提高PVD镀膜从业人员的***技能和工作责任心是十分重要的。
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