公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶，硬度小且易吸附灰尘，不过干版还有包膜和超微颗粒干版，其中后者可以应用于芯片制造。(顺便提一下，通常讲的菲林即film，底片或胶片的意思，感光为微小晶体颗粒)。
光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。如需要烤版，烤版时要注意：①首先要选好烤版胶，烤版胶不能太脏。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻版必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻版不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。
掩膜（MASK）就是指单片机设计掩膜就是指程序流程统计数据早已制成光刻版，在单片机设计生产制造的全过程中把程序流程做进来。优势是：程序流程靠谱、低成本。在制版中影响印版质量的因素，主要有显影液浓度、显影温度和显影时间以及显影液的循环搅拌情况、显影液的疲劳程度等。缺陷：大批量规定大，每一次改动程序流程就必须再次做光呆板，不一样程序流程不可以一起生产制造，交货期长。
选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。
