真空电镀是真空镀膜工艺的一项新发展。真空电镀当高温蒸发源通电加热后，真空电镀促使待镀材料—蒸发料熔化蒸发。真空电镀蒸发料粒子获得一定动能，真空电镀则沿着视线方向徐徐上升，后真空电镀附着于工件外表上堆积成膜。真空电镀用这种工艺形成的镀层，真空电镀与零件外表既无牢固的化学结合。
真空电镀的简单作用过程：真空电镀接通蒸发源交流电源，真空电镀蒸发料粒子熔化蒸发，真空电镀进入辉光放电区并被电离。
电镀是现代手表中常见的表壳装饰方法，电镀技术崛起于七十年代，因电镀均匀牢固，比包金成本低且不易脱落，又无锻黄壳变色、锈蚀的可能，所以很快将包金淘汰出市场。
PVD是（物***相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定;PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮;PVD镀膜不会产生***或有污染的物质。
