CVD 制备铱高温涂层人们之所以对作涂层材料感兴趣是由于这类金属优良的性能 。铱具有较强的能力和较高的熔点而受到重视, 是一种较理想的高温涂层材料 。
20 世纪 60 年代以来, 世界航空航天技术飞速发展,一些高熔点材料(如石墨碳和钨钼钽铌等难熔金属)被大量使用,但这些材料的一个共同的致命缺点是能力差。
60 年代美国材料实验室(AFML)对石墨碳的铱保护涂层进行过大量的研究, 采用了多种成型方法制备铱涂层 ,其中包括化学气相沉积法 。虽然没有制备出质量令人满意的厚铱涂层, 但仍认为 CVD 是一种非常有希望且值得进一步研究的方法。
橡胶真空镀膜设备
以下是制备的必要条件：
① 在沉积温度下，反应物具有足够的蒸气压，并能以适当的速度被引入反应室；
② 反应产物除了形成固态薄膜物质外，都必须是挥发性的；
③ 沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压。
CVD技术是作为涂层的手段而开发的，但不只应用于耐热物质的涂·层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域，其工艺成本具体而定。
等离子体化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体（非平衡等离子体）作能量源，工件置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使工件升温到预定的温度，然后通进适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在工件表面形成固态薄膜。它包括了化学气相沉积的一般技术，又有辉光放电的强化作用。
