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真空镀膜操作规程
1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电......1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。
3.在用电子枪镀膜时，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃铅玻璃，观察时应戴上铅玻璃眼镜，以防X射线侵害***。
4.镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除***粉尘。
5.***物品要妥善保管，以防。
6.酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时，应轻拿轻放，不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。
8.工作完毕应断电、断水。
真空镀膜主要利用辉光放电(glowdischarge)将气(Ar)离子撞击靶材du(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的气离子化,造成靶与气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glowdischarge)将气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。
真空镀膜的物理过程
PVD（物***相沉积技术）的基本原理可分为三个工艺步骤：
（1）镀料的气化：即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源
（2）镀料粒子（（原子、分子或离子）的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞，产生多种反应。
（3）镀料粒子在基片表面的沉积
真空镀膜厂家真空室形带来的影响
为尽量减小真空镀膜机真空室形变带来的影响，我们将导轨、丝杆等传动件固定于一个刚性的中间层上，其与真空室底壁之间采用点、
线、面活性支撑，以吸收和隔离形变，并设置形变补偿调节机构，在系统抽真，参照有限元计算提供的理论数据预设适当的补偿量，以使其在真空状态下达到平衡。
为了验证有限元计算的结果，对真空室的形变和补偿进行了测试。一步，将四只千分表***在工作台安装基点的真空壁外侧，
当真空室由大气抽到真空时，记录各千分表的变化量，经一体化处理后为用激光自准直仪调整i形变补偿。
