企业资质

沈阳东创贵金属材料有限公司

普通会员6
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:辽宁 沈阳
联系卖家:赵总
手机号码:13898123309
公司官网:dcgjs.cn
企业地址:沈阳市沈河区文化东路89号
企业概况

沈阳东创***材料有限公司是东北大学科技产业集团有限公司下属的国有全资企业,始创于1973年,是国内***行业的知名企业之一。公司主要经营稀***回收、提纯、加工;金属靶材及零部件、纪念章、饰品加工;矿山工程设计,机械设备安装、调试;金属材料批发、零售;自营和代理各类商品和技术的进出口。公司主要产品......

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产品编号:2008188852                    更新时间:2020-10-27
价格: 来电议定
沈阳东创贵金属材料有限公司

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  • 主营业务:***材料
  • 公司官网:dcgjs.cn
  • 公司地址:沈阳市沈河区文化东路89号

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赵总 13898123309

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而未米的0.18um}艺甚至0.13m工艺,所需要的靶材纯度将要求达到5甚至6N以上。铜与铝相比较,铜具有更高的抗电迁移能力及更低的电阻率,能够满足!导体工艺在0.25um以下的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题:铜与有机介质材料的附着强度低.并且容易发生反应,导致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。就使用寿命周期而言咬合型刷辊占主导地位,它是由单片刷套、键、毛刷辊辊轴、端板组成为整体毛刷辊组装的形式。


为了解决以上这些问题,需要在铜与介质层之间设置阻挡层。阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物,因此要求阻挡层厚度小于50nm,与铜及介质材料的附着性能良好。铜互连和铝互连的阻挡层材料是不同的.需要研制新的靶材材料。由于容器与药剂中杂质的污染,使得到的金属纯度受到一定的限制,只有用化学方法将金属提纯到一定纯度之后,再用物理方法如区熔提纯,才能将金属纯度提到一个新的高度。铜互连的阻挡层用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等.但是Ta、W都是难熔金属.制作相对困难,如今正在研究钼、铬等的台金作为替代材料。


在铂族金属的应用中,光学玻璃行业是铂的重要的应用领域,铂是制造熔制光学玻璃的坩埚和搅拌器的必选材料,由于光学玻璃的特殊性,提出了对坩埚和搅拌器的更苛刻的适用要求,早在八十年代初期,国内就有人提出了用弥散强化铂来制作坩埚和搅拌器。


21世纪展现良好发展前景的纳米技术,***由于它们的独特优异的物理化学性能,资源的稀缺性以及在已知的传统产业领域的不断扩大应用和在未知领域的不断开拓探索,成为纳米技术早和相当重要的研究对象之一。


***提炼回收公司***回收各式***的企业,同时可以在哪些地方回收到金属废料呢?

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