光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到"原子清洁度"。更详尽的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力, 并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子，这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而彻底清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。清洗时，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压***灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反比关系。一般STN-LCD制作过程中，需求的玻璃基板累积紫外线能量为300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色滤光片制作过程中，要求的玻璃基板累积紫外线能量为600nj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD制作过程中，除了低压***灯产生臭氧清洗玻璃外，目前制程的主流是，使用Excimer Lamp,其172nm波长紫外线的高反应性质对玻璃的清洗效率更好。