半导体用纯水处理设备,单晶硅用纯水处理设备,集成电路用纯水处理设备,超大规模集成电路用超纯水处理设备,显象管用高纯水设备,触摸屏用超水设备,液晶显示用超水设备,高精度线路板用纯水处理设备,光学、光电类器件用纯水处理设备,各种电子器件用纯水处理设备,微电子工业用超纯水设备、 IC 芯片封装行业用高纯水设备,太阳能硅片清洗用纯水处理设备, LCD 清洗用超纯水设备
1.半导体、单晶硅、集成电路、超大规模集成电路,显象管、触摸屏、液晶显示,高精度线路板,光学、光电类器件,各种电子器件,微电子工业、IC 芯片封装行业,太阳能硅片清洗、 LCD 清洗等.
2.医药行业用水，生物、生化实验室用水,制药行业,无菌、无热源***用水、制剂工艺用水，***血液透析用水、生化分析用水、输液医***水等。
3.热电厂用水处理、冶金工业用水处理、航天工业、汽车工业等.
4.制取热力、火力、涡轮发电锅炉用水，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水。
1.传统工艺:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→精密过滤器→阳离子树脂交换柱→阴离子树脂交换柱→阴阳离子树脂交换混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）.
2.新工艺一:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→中间水箱→RO前水泵→精密过滤器→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）
3.新工艺二:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→中间水箱→RO前水泵→精密过滤器→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→普通混床→抛光混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下,25 ℃）
文章来源：东莞市申蓝水处理科技有限公司
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