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鑫志尚（深圳）电子有限公司

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SEMISHARE致力全球半导体技术的共享事业，专注于促进中国半导体事业的快速成长，目标成为半导体行业领先的totalsolution供应商。目前在中国设有半导体仪器营销事业群。SEMISHARE半导体仪器营销事业群立足中国深圳，香港，北京，上海，西安等城市为全中国半导体行业提供全球最先进的半导体检......

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电子束蒸渡机

产品编号：2359776 更新时间：2009-08-29

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鑫志尚（深圳）电子有限公司

主营业务：探针台,半自动探针台失效分析探针台真空高低温探针台激光...
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产品详情

应用

Peva-600E高精密Lift-Off电子束蒸镀系统乃是针对功率IC元件、***化***晶圆及次微米精密线宽要求的Lift-Off***程所设计的整批式量产设备，主要应用在Schottky、MMIC、Ohmic、Gate之金属化或ITO, SiO2制程，拥有独特的蒸镀反应室设计，可以提供更高的产能（增加150%），与更为精准、更可靠的制程需求。

特点

AST聚昌科技Peva-600E系统的特点包括
(1) 因应功率IC(Ti/Ni/Ag)及ⅢⅤ族***化***晶圆各种Lift-Off制程需求（Ti、Au、Al、Ni、Cr、AuGe等），将Throw Distance拉高至＞26~32吋
(2) Run to Run膜厚均匀性可控制至＜&plu***n;1%，以确保整体产品良率
(3) ***佳化蒸镀腔及排气系统设计，可有效降低Cycle time，并提昇材料利用率（提高20%）
(4) 特殊设计的夹治具，针对薄片制程（<100微米），可靠度***
(5) 全自动化、智慧型PC操控系统，提高全厂自动化之需求。

Peva-600E并可加装离子辅助镀膜(IAD)设备，进行低温制程，应用在Achromats、Fiber End Faces、Plastic Optics及MEMS wafers等精密镀膜，同时拥有可提昇至200mm大尺寸、次微米、均匀性&plu***n;1%之Lift-Off制程能力、更有效的材料利用率、更高的产能与可靠度及整体地板空间使用率大幅缩减的种种优点。

规格

Wafer Numbers / Sizes	(108 -15) pcs / (2"- 6")for Planetary Domes
E-Beam Power	From 6 ~10 kW (Option)
Ultimate Pressure	< 1E-7 Torr
Based Pressure	2E-6 Torr within 30 mins
Pumping System	Cryopump + Rotary Vane Pump or Dry pump (Option)
Automatic Control System	Industrial HMI with Graphic User Interface or Fully PC Interface Operation(Option)
Thickness/Rate and Process Control	RS-232 interfaced Real Time Controller including Sweeper, Indexer, Material, Tooling Factor, Soak, Ramp and Shutter.
Substrate Temperature Control	RT ~ 350℃
Non-Uniformity	5% for WIW, WTW and RTR
Power Requirement	AC220V, 3 phase, 60 Hz, 80A,
Dry N2 Requirement	1.2 kgw/cm2
CDA Requirement	5 kgw/cm2
Water Requirement	1.5 kgw/cm2, 20℃, 30 l/min
Dimension (WxDxH)	1100 x 1200 x 1800 (mm)
Weight	750 kgw