概述 用于表面沾污的单/多晶硅片（2''~8''）进行超声波振荡清洗. 2. 组成部分 设备基本由两个清洗槽构成，一槽为超声波振荡+清洗液+纯水,一槽为纯水。 3. 控制系统 设备操作方便,清洗工作过程带时间控制. 超声波发生器可选进口或国产,可分别予以报价. 4. 装片构成 每槽可装载多个花篮，晶片放在清洗花篮内（25片/篮）。 5. 温控部分 超声波振荡清洗过程水温可根据需要设置加热管,清洗功率与超声频率可根据需要调整. 可根据客户要求,设计加工.水线设备
北京华林伟业科技有限公司
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