1：金属镀钯，镀钯铜提钯技术：首先把镀钯铜等表面镀钯料放入容器中，再加入自配退钯溶液，金银泥处理车间设备，数秒中后表面钯退净，取出镀钯铜基体(此方法对基体无伤害，再用自配化学***，钯和溶液分离
2：合金含钯，铜钯合金提钯技术：把铜钯合金放入容器中，加入自配***把铜钯合金溶解成液体，再用自配化学***把钯和溶液分离。
3：废钯碳催化剂提钯，金银泥处理车间设备厂家，首先用物理原理把碳等有机物去除，金银泥处理车间设备报价，剩下金属钯，再用化学***溶解金属钯，再进行下一步钯分离。
热压法：ITO靶材的热压制作过程是在石墨或氧化铝制的模具内充填入适当粉末以后，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的压力单轴向加压，同时以1000℃～1600℃进行烧结。热压工艺制作过程所需的成型压力较小，烧结温度较低，烧结时间较短。但热压法生产的ITO靶材由于缺氧率高，氧含量分布不均匀，从而影响了生产ITO薄膜的均匀性，且不能生产大尺寸的靶。
溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与***均匀性、***（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。
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