阻尼布工厂-晨鑫玻璃(在线咨询)-阻尼布

含有氧化***的抛光皮——主要表现为提高抛光速率。

含有氧化锆的抛光皮——主要表现为提高光洁度。

不含有填充剂的抛光皮——主要表现为抛光过程中的光圈稳定。

聚胺脂抛光皮发泡孔的不同

抛光皮发泡孔多利于抛光粉的流动性，阻尼布多少钱，抛光速率要好。抛光皮发泡孔少的在亲水性能上要强，阻尼布报价，因聚胺脂在长时间抛光液的浸蚀下，发泡多的变形大于发泡少的聚胺脂抛光皮，阻尼布，因此，发泡孔多的抛光皮修盘次数相应增加。

抛光皮其表面上面的沟槽本身具有着相似于均匀的分布磨粒的作用，阻尼布工厂，它通过其增加去除应力保证工件的移除率。抛光皮表面沟槽形式(平行与垂直交叉型或同心环形)、沟槽形状(V型、U型或楔型)、沟槽方向以及沟槽尺寸(深度、宽度和间距)等对磨料的分布和流动、抛光皮的寿命有着显著的影响。采用表面开有图1所示不同深度槽的两种阻尼布抛光垫的抛光实验

化学机械抛光中抛光皮的主要作用

抛光皮是化学机械抛光(CMP)系统的重要组成部分。它具有贮存抛光液，并把它均匀运送到工件的整个加区域等作用。

抛光皮的性能主要由抛光皮的材料种类、材料性能、表面结构与状态以及修整参数等决定。抛光皮的剪切模量或增大抛光皮的可压缩性，CMP过程材料去除率增大;采用表面合理开槽的抛光皮，可提高材料去除率，降低晶片表面的不均匀性;抛光垫粗糙的表面有利于提高材料去除率。对抛光皮进行适当的修整可以增加抛光垫表面粗糙度、使材料去除率趋于一致。与离线修整相比较，在线修整时修整效果比较好。