抛光垫又称抛光皮,抛光布,抛光片,化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。
分类
按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫; 按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫; 按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型。
作用
①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域;
②将抛光后便化学反应充分进行;的反应物、碎屑等顺利排出,抛光皮厂商,达到去除效果;
③维持抛光垫表面的抛光液薄膜, 以便化学反应充分进行;
④保持抛光过程的平稳、表面不变形,抛光皮批发, 以便获得较好的晶片表面形貌;
在薄化产业中我们常用的是聚氨酯氧化***抛光垫对需蚀刻减薄的液晶面板和玻璃产品进行研磨抛光加工。目前专门针对减薄抛光的面板和玻璃的抛光垫应用研究不多,本文结合对现在已知抛光垫在晶片和玻璃产品使用情况知识参考,
使用聚氨酯氧化***抛光垫的原因概述
我们所知在对液晶面板或平板玻璃进行抛光主要是去除面板或玻璃在蚀刻前后的凹凸点、脏污和划伤等表面不良以及辅助蚀刻减少抛光产品的表面部分厚度,使液晶面板或平板玻璃达到相应减薄要求和表面光洁的效果。
抛光垫表面沟槽的倾斜角分为正、负两种, 不同的倾斜角会对抛光效率及加工区域温度产生重要影响。利用所示的三种不同倾斜角度的圆环型沟槽抛光垫进行抛光实验发现,抛光皮,沟槽倾斜角为20度的抛光垫的抛光效率和加工区域温度高,机械却除速率较高。
其原因是在pV值(压力转速的乘积)相等的情况下,抛光过程中的氧化系数与机械去除系数能较好匹配,使得氧化过程和机械去除过程的速率基本达到平衡。而对于另外两种抛光垫,抛光皮批发商,机械去除速率相对较小,抛光效率会受到机械去除过程的限制,特别是当pV值比较小的时候,更加明显。
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