半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质，同时伴有对硅、尘粒、有机碳、微生物等物质含量的要求各不一。
详细情况请联系：余艳13073396006，***:674831270
电子工业用超纯水的工艺流程
电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种：
1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→反渗透设备→原水箱→纯水泵→混床→后置精密过滤器→纯水箱→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的***新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→保安过滤器→一级反渗透设备→原水箱→二级反渗透设备→纯水泵→电去离子（EDI）→纯水箱→输送泵→UV灯→精混→精密过滤器→用水点
1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→反渗透设备→原水箱→纯水泵→混床→后置精密过滤器→纯水箱→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的***新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→保安过滤器→一级反渗透设备→原水箱→二级反渗透设备→纯水泵→电去离子（EDI）→纯水箱→输送泵→UV灯→精混→精密过滤器→用水点
详细情况请联系：余艳13073396006
电子工业用超纯水的应用领域
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
2、超纯材料和超纯化学***；
3、实验室和中试车间；
4、汽车、家电表面抛光处理；
5、光电产品、液晶显示器
6、其他高科技精微产品；
2、超纯材料和超纯化学***；
3、实验室和中试车间；
4、汽车、家电表面抛光处理；
5、光电产品、液晶显示器
6、其他高科技精微产品；
表1 显像管、液晶显示器用纯水水质
|
项目单位 |
电阻率
MΩ·cm
(25t) |
***
个/ml |
微粒
个/ml |
TOC
mg/L |
Na+
μg/L |
K+
μg/L |
Cu
μg/L |
Fe
μg/L |
Zn
μg/L |
|
黑白显像管
彩色显像管
液晶显示器 |
≥5
≥5
≥5 |
≤5
≤1
≤1 |
≤10(Φ＞0.5μ)
≤10(Φ＞1μ)
≤10(Φ＞1μ) |
≤0.5
≤0.5
≤1 |
≤10
≤10
≤10 |
≤10
≤10
≤10 |
≤8
≤10
≤10 |
≤10
≤10
≤10 |
≤10
≤10
≤10 |
表2 集成电路（DRAM）对纯水水质的要求[4][5][6]
|
集成电路（DRAM）集成度 |
16K |
64K |
256K |
1M |
4M |
16M | |
|
相邻线距（μm） |
4 |
2.2 |
1.8 |
1.2 |
0.8 |
0.5 | |
|
微粒 |
直径（μm） |
0.4 |
0.2 |
0.2 |
0.1 |
0.08 |
0.05 |
|
个数（PCS/ml） |
＜100 |
＜100 |
＜20 |
＜20 |
＜10 |
＜10 | |
|
***（CFU/100ML） |
＜100 |
＜50 |
＜10 |
＜5 |
＜1 |
＜0.5 | |
|
电阻率（μs/cm，25℃） |
＞16 |
＞17 |
＞17.5 |
＞18 |
＞18 |
＞18.2 | |
|
TOC(ppb) |
＜1000 |
＜500 |
＜100 |
＜50 |
＜30 |
＜10 | |
|
DO(ppb) |
＜500 |
＜200 |
＜100 |
＜80 |
＜50 |
＜10 | |
|
Na+(ppb) |
＜1 |
＜1 |
＜0.8 |
＜0.5 |
＜0.1 |
＜0.1 | |
详细情况请联系：余艳13073396006，***:674831270
电子工业部高纯水水质试行标准[39]
化学指标单位：μg/L
|
序号 |
水质项目 |
一级高纯水指标 |
二级高纯水指标 |
|
1 |
电阻率（25℃）MΩ·cm |
≥15 |
≥10 |
|
2 |
电导率，μs/cm |
0.05 |
0.1 |
|
3 |
PH值 |
6.8～7.2 |
6.6～7.4 |
|
4 |
***总数，个/mL |
＜3 |
＜9 |
|
5 |
微粒（直径＞0.5μm，粒/mL） |
＜150 |
＜300 |
|
6 |
二氧化硅 |
＜10 |
＜20 |
|
7 |
有机物（以COD计） |
＜0.3 |
＜0.5 |
|
8 |
钠 Na |
＜0.5 |
＜2 |
|
9 |
铁 Fe |
＜1 |
＜2 |
|
10 |
铜 Cu |
＜0.5 |
＜1 |
|
11 |
钙 Ca |
＜1 |
＜3 |
|
12 |
镁 Mg |
＜0.2 |
＜1 |
|
13 |
锌 Zn |
＜0.5 |
＜1 |
|
14 |
锰 Mn |
＜0.2 |
＜0.5 |
说明：①一级高纯水适用于大规模集成电路，微波器件以及有相同要求到半导体器件产品。
②二级高纯水适用于一般电路，分立器件以及有相同要求的半导体器件产品。
③本表按1980年电子工业部标准摘录。
DRAM 微电子工业水质标准
|
|
LED(TFT) |
256K DRAM |
1M DRAM |
4M DRAM |
16M DRAM |
64M DRAM |
|
线宽度(um) |
- |
1.4 - 1.8 |
0.8 - 1.0 |
0.4 - 0.6 |
0.2 - 0.3 |
0.1 |
|
电阻率
（Mohm,25℃） |
>18.0 |
>17.5 |
>18.0 |
>18.0 |
>18.1 |
>18.1 |
|
TOC（ppb） |
<20 |
<100 |
<30 |
<10 |
<3 |
<1 |
|
微粒（No./ml） |
(0.1μ) <10/ml |
(0.2μ) <50/ml |
(0.1μ) <10/ml |
(0.05μ) <30/ml |
(0.03μ) <10/ml |
(0.03μ) <5/ml |
|
***（CFU/ml） |
<1/100 |
<10/100 |
<1/100 |
<5/1000 |
<5/1000 |
<5/1000 |
|
溶解氧（ppb） |
<50 |
<100 |
<100 |
<50 |
<5 |
<3 |
|
二氧化硅（ppb） |
<5 |
<10 |
<5 |
<3 |
<1 |
<0.5 |
|
硼（ppb） |
- |
- |
<2 |
0.05 |
0.05 |
0.05 |
|
钠（ppb） |
<0.1 |
<0.2 |
<0.1 |
<0.1 |
0.05 |
0.01 |
|
钾（ppb） |
<0.1 |
<0.3 |
<0.1 |
<0.1 |
0.05 |
0.02 |
|
锌 |
<0.05 |
<0.1 |
<0.05 |
<0.05 |
0.02 |
0.02 |
|
铁 |
<0.05 |
|
<0.05 |
<0.05 |
0.02 |
0.02 |
|
铜 |
<0.05 |
|
<0.05 |
<0.05 |
0.005 |
0.005 |
|
氯化物 |
<0.1 |
<0.2 |
<0.1 |
0.1 |
0.02 |
0.02 |
|
***化物 |
|
<0.1 |
<0.1 |
0.05 |
0.02 |
0.02 |
|
*** |
|
<0.1 |
<0.1 |
0.05 |
0.02 |
0.02 |
|
***盐 |
|
0.1 |
<0.2 |
0.05 |
0.05 |
0.05 |
|
不溶残渣 |
|
<0.3 |
0.1 |
0.05 |
0.05 |
0.05 |
我国电子级水质技术指标（GB11446-1-89）
化学指标单位：μg/L
|
指标 |
EW-Ⅰ |
EW-Ⅱ |
EW-Ⅲ |
EW-Ⅳ |
EW-Ⅴ |
|
电阻率 MΩ·cm（25℃） |
18 90％时间***小17 |
15 90％时间***小12 |
10 90％时间***小8 |
≥2 |
≥0.5 |
|
大于1μm微粒数，***大值，个/mL |
1 |
5 |
10 |
100 |
500 |
|
大于0.5μm微粒数，***大值，个/mL |
100 |
300 |
500 |
1000 |
2000 |
|
***个数，***大值，个/mL |
1 |
5 |
10 |
50 |
100 |
|
总有机碳含量，***大值 |
50 |
100 |
200 |
1000 |
1000 |
|
二氧化硅总含量，***大值 |
2 |
20 |
50 |
100 |
1000 |
|
氯含量，***大值 |
0.5 |
2 |
10 |
100 |
500 |
|
铜含量，***大值 |
0.2 |
2 |
5 |
50 |
500 |
|
钾含量，***大值 |
0.5 |
5 |
10 |
100 |
1000 |
|
钠含量，***大值 0 |
0.5 |
6 |
10 |
200 |
500 |
|
锌含量，***大值 |
0.2 |
2 |
10 |
100 |
500 |
|
铝含量，***大值 |
0.5 |
5 |
10 |
100 |
500 |
|
铁含量，***大值 |
0.5 |
5 |
10 |
100 |
500 |
|
钙含量，***大值 |
0.5 |
5 |
10 |
100 |
500 |
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