供应电子半导体行业光伏新能源硅片清洗高纯水设备

一、纯水和高纯水水质指标和使用行业推荐：

水质指标
推荐使用行业
电导率≤10μS/CM
动物饮用水(医药)、普通化工原料配料用水、食品行业配料用水

普通电镀行业冲洗用去离子水、纺织印染用除硬脱盐纯水、聚脂切片用纯水、精细化工用水、民用饮用纯净水用水、其它有相同水质要求的用水.
电导率≤4μS/CM
电镀化学品生产用水、化工行业表面活性剂生产用水、医用纯化水、

白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净水用水、普通化妆品生产用水、血透纯水机用水、其它有相同水质要求的用水.
电阻率5~10MΩ.CM
锂电池生产用水、蓄电池生产用水、化妆品生产用水、电厂锅炉用纯水、化工厂配料用水、其它有相同水质要求的用水.
电阻率:10~15MΩ.CM
动物实验室用水、玻壳镀膜冲洗用水、电镀用纯水、镀膜玻璃用水、其它有相同水质要求的用水.
电阻率≥15 MΩ.CM
医药生产用无菌水、口服液用水、高级化妆品生产用去离子水、电子行业镀膜用水、光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水、其它有相同水质要求的用水.
电阻率≥17 MΩ.CM
磁性材料锅炉用软化水、敏感新材料用水、半导体材料生产用水、尖端金属材料用水、防老化材料实验室用水、有色金属，贵金属冶炼用水、钠米级新材料生产用水、航空新材料生产用水、太阳能电池生产用水、水晶片生产用水、超纯化学试剂生产用水、实验室用高纯水、其它有相同水质要求的用水.
电阻率≥18 MΩ.CM
ITO导电玻璃制造用水、化验室用水、电子级无尘布生产用水等其它有相同水质要求的用水

二、纯水的制取方法：（出水电导率≤10μS/CM）

1、预处理——>阳床——>阴床（全离子交换法）

2、预处理——>RO反渗透（反渗透法）

三、工业超纯水制造工艺：(出水电阻率5~18.2MΩ.CM)
1、预处理——>阳床——>阴床——>混合床
（全离子交换法）
2、预处理——>反渗透——>混合床
（反渗透+混床法）
3、预处理——>反渗透——>EDI （反渗透+EDI法）

四、设备说明

为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。
系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

执行标准：严格执行现行的各种水处理标准（生活饮用水标准、实验室用水标准、电子工业部高纯水标准等），不断的在工艺设计和材料选择上进行改进，以满足先行的各种标准。

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