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什么是真空镀膜工艺

膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，耳机配件真空电镀加工厂，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。

　　真空电镀设备的离子镀膜层不易剥落、褪色，耳机配件真空电镀厂家，真空电镀设备表面不易形成污垢，擦洗简单，而且真空电镀设备成本低。真空电镀设备可以在不锈钢、铁、铜锌合金等不同基材上镀制以下膜层。

　　真空电镀设备是一种银***的膜层，真空电镀设备具有良好的附着性以及良好的耐腐蚀性和耐氧化性。真空电镀设备能够增强它们的润滑性和耐磨损性。目前真空电镀设备常见的颜色主要有：深金***，耳机配件真空电镀，浅金***，蓝色等。

真空镀膜设备选用要点

炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

真空镀膜设备根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

夹具运转形式有自转、公转及公转 自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。