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***示踪原子分析和质谱分析表明,采用双氧体系清洗硅片效果好,同时所用的全部化学*** H2O2、NH4OH、HCl能够完全挥发掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片时,在硅片表面会留下约2×1010原子每平方厘米的硫原子,用后一种酸性清洗液时可以完全被清除。用H2O2体系清洗硅片无残留物,***性小,也有利于工人健康和环境保护。硅片清洗中用各步清洗液处理后,都要用超纯水彻底冲洗。
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③超声波清洗:超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段,清洗效果更好。化学清洗化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染,方法较多,有溶剂萃取、酸洗(***、、王水、各种混合酸等)和等离子体法等。
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