




什么是真空镀膜工艺
一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。
真空镀膜
在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,真空电镀报价,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。


超高真空系统地烘烤与清洗
由溅射离子泵和钛升华泵组成的真空系统是目前获得清洁超高真空的主要抽气手段,能获得低于1.3*10-3Pa的压力。中小型真空镀膜设备真空系统以溅射离子泵作为主泵,大型真空系统以钛升华泵做主泵。超高真空系统要求真空室内壁相当干净,零件表面粗糙度要求高,材料放气量要小。真空室零件要进行严格地清洁处理,真空电镀厂家,不要用手接触零件表面。真空室的漏率也要严加控制。除此外,真空电镀,还要对真空室进行烘烤。
真空镀膜技术国内外发展现状,真空镀膜技术是真空应用技术的重要组成部分,是一项综合的、应用范围很广的***技术,是许多前沿学科发展的基础技术之一,真空电镀表面处理,同时也是当今信息时代中许多高新技术发展必不可少的手段。从目前真空镀膜设备的市场发展现状来看,国外许多实力雄厚的真空镀膜设备生产商已在中国成立了许多合资或独资的加工企业,并将一些新的真空镀膜工艺技术和产品移植到这些企业中来。因此我国真空镀膜设备在今后三~五年内的主要市场除了国内的企业外,外商***企业也是设备需求新的增长点。
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