




特种气体是光电子、微电子等领域。特别是超大规模集成电路、液晶显示器件、非晶硅薄膜太阳能电池、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少的基础性支撑源材料。它的纯度和洁净度直接影响到光电子、微电子元器件的质量、集成度、特定技术指标和成品率,并从根本上制约着电路和器件的精1确性和准确性。半导体工业用气体品种多、质量要求高、用量少,大部分是***或腐蚀性气体。品种高达百余种。
在半导体制造业中,可以把气体分成大宗气体和电子气体,大宗气体是指集中供应且用量较大的气体,沈阳特种气体,如N2、H2、O2、Ar、He等。电子气体主要是半导体制造中刻蚀、清洗、外延生长、离子注入、掺杂、气相沉积,扩散等过程中使用的各种化学气体,如高纯NF3、SiH4、WF6、HCl、***F6、Cl2、NH3、CF4、SF6、PH3、AsH3、BCl3、BF3、B2H6、C2F6、C3F8、***F8、N2O等,又可称为电子特种气体。
电子气体是超大规模集成电路、平板显示器件、化合物半导体器件、太阳能电池等电子工业生产不可或缺的原材料。在半导体的生产过程中,从芯片生长到***后器件的封装,几乎每一步、每一个环节都离不开电子气体。电子气体成本占IC材料总成本的5%~6%。电子气体的纯度对芯片质量有很大的影响。
电子气体中的金属杂质主要来源于:1) 生产环境和制造过程中引入的微量金属杂质;2) 气体运输和储存过程中机械带入的金属杂质;3) 使用过程中外界环境引入的金属污染。这些金属杂质在气体中主要以0.1~20 μm悬浮颗粒或小于0.1 μm的气溶胶形式存在。只有将气体中的颗粒通过分离进行排除,特种气体公司,才能减少或消除金属杂质。然而,特种气体厂家,目前一般的过滤器的孔径***1小为0.2 μm,无法完全消除金属杂质。因此,建立气体中痕量金属杂质的检测方法,对高纯气体的生产、储存和运输等均具有指导意义。
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