上海普赫光电——专注显微光学!【(廖***)13916956665】
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普赫光电科技(上海)有限公司(简称:普赫光电)是国内***具规模的进口显微镜、特种光源供应商之一,常年提供原装日本(Japan)进口奥林帕斯olympus显微镜,客户遍及上海、江苏(苏州)、江苏(常州)、江苏(南京)、江苏(昆山)、浙江(杭州)、浙江(金华)、浙江(温州)、浙江(宁波)、安徽(合肥)、湖北(武汉)、湖南(长沙)、江西(南昌)、福建(福州)、福建(厦门)、贵州(贵阳)、云南(昆明)、新疆(乌鲁木齐)、甘肃(兰州)、宁夏(银川)、青海(西宁)、陕西(西安)、重庆、四川(成都)、河南(郑州)、山西(太原)、山东(青岛)、山东(济南)、天津、河北(石家庄)、北京、内蒙古(呼和浩特)、辽宁(沈阳)、辽宁(大连)、吉林(长春)、黑龙江(哈尔滨)等国内大中城市。
BX51/61研究级显微镜 |
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BX51/61正置研究级显微镜 ***研究级正置显微镜,满足各种观察方式。具备***的UIS2光学系统,提供优越的光学图像品质,是DIC和荧光观察的理想选择。扩展性和可操作性强,一系列配件可供选配。其优越的性能使其成为奥林巴斯共聚焦系统的显微镜平台。BX51为手动显微镜,BX61为电动显微镜。 UIS2光学系统:荧光数码成像领域内革命性的飞跃 迄今为止,新型的BX2系列显微镜采用奥林巴斯******的光学系统来满足将来的科学研究需求。UIS2光学系统拥有世界***水平的荧光性能,同时具有***的图像质量和清晰度,对生命科学研究的飞速发展具有极大的促进作用。UIS2光学系统具有信噪比(S/N)高、光透过率高的特点,并具有多种照明方式,对波谱的校正范围已从UV(紫外)扩展到IR(红外),进行显微观察有***的表现。这些进步不仅满足了目前在荧光数码成像领域内的各种需求,同时为将来的发展打下了坚实的基础。由于现代科学研究的复杂性和***性已发展至***的高水平,因此对质量和可靠性的需求使BX2系列显微镜成为了当今科研领域***佳的操作平台。 新的荧光系统 高信噪比(S/N),能够捕获极弱荧光
***的光学品质——对现代生命科学研究至关重要 干涉镀膜荧光激发块的性能改进 荧光激发块的干涉膜采用了新型镀膜技术,激发带宽(BP)以及荧光带宽(BA)比传统谱线缩短了6nm,使信噪比更进一步得到提高。奥林巴斯的荧光激发块采用硬镀膜技术,大大延长了激发块的使用寿命,提高了在潮湿环境中的使用性能。
荧光蛋白专用高质量荧光激发块 BX2系列HQ型荧光激发块***适宜的波长是ECFP/EFP/EYFP/DsRed。高锐化镀膜以及高透过率(90%-95%)可有效地透过荧光蛋白所发射的荧光。这样,即使采用微弱的激发光仍可观察到明亮的图像,同时,防止荧光衰减,并将细胞受损的可能减至***小。 减少杂散光的功能 当在分光镜对激发光进行反射时,杂散光的微量透射就可造成噪声上升。奥林巴斯公司的荧光激发块经由其独特的光吸收涂层可吸收99%以上的杂散光,减少信号干扰,获得高质量图像。
***佳信噪比(S/N)以及***佳的荧光性能 与常规物镜相比,通过严格的挑选的低自发荧光玻璃材料以及采取相应的措施把来自防反射涂层及粘合材料的自发荧光减至***小,UIS2物镜的荧光信噪比(S/N)为常规物镜的1.5倍。该技术不仅提高了数值孔径,同时也减少了自发荧光,这两个方面在以前一直被认为是不可兼得的。而现在的技术已经能够有效地检测到微弱激发光所激发的极弱荧光,从而使UIS2系统可对***进行***佳荧光成像。
荧光成像用高数值孔径物镜 BX2系列具有新研制的PLAPON60XO物镜的特点,提供了当今普通观察方法用物镜***高的数值孔径(N. A.:1.42),用于荧光成像,同时具有***的通用特性。除了其突出的荧光信噪比之外,也可进行紫外激发,这在以前的普通显微镜是不能做到的。UPLSAPO100×O物镜在340nm处(紫外)仍然维持着高透过率。
在很宽的波谱范围内具有高透过率
进行近红外区色差校正
荧光附件
功能强大的反射光照明器
多用途型BX-RFA(适合多种科研要求)及通用型BX-URA2。可同时使用6种荧光激发块,“轻拨式”激发块转换功能,使不同荧光激发之间的迅速转换非常方便,并可消除震动,有利于复染样品的荧光观察。激发块标识在暗室环境中发光,在暗室中也能很容易地选择需要的荧光激发块。另外,根据用户的需要还可以选择6孔滤***滑块(U-RSL6/U-RSL6EM)安放激发滤***和发射滤***进行荧光观察。
***专利,荧光激发平衡器(U-EXBABG,U-EXBAUB,U-EXBAUG)
多种不同功能的灯箱,满足各种科研需要,提供优质照明
荧光光阑模块,提供不同的荧光观察手段
矩形视场光阑模块可将光照射范围设置为于成像传感器***匹配的尺寸,避免了在成像区域之外的照射造成的荧光衰减以及损伤敏感***。
激光扫描共聚焦显微镜FV1000
UIS2光学系统的高透过率提供清晰、平坦的成像效果
日光型光源提供***的色彩还原,均匀的成像照明
DP30BW
DIC观察系统在各种放大倍率下皆可对样品图像进行优化
薄样品使用U-DICTHC,专为获取高对比度设计
各种观察方式、不同放大倍率下,均能获得高对比度的清晰图像
相差观察
暗场观察
偏光观察
***电动系统满足更复杂的科研需求
技术规格
*1 由于存在顶透镜,在视场外围处可能出现轻微的虚光现象。只在观察过程中出现此情况。 *3 选配件 |