公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
菲林在使用中需注意的事项
其他条件不变，显影液的浓度越高，温度越高，则胶片的高密越高。如果用国产的显影液(例如：爱比西SH-1000)冲洗胶片，一般要将药液按1：4～1：3稀释，要注意显影温度设定过高会使显影液因蒸发、氧化速度过快而失效，造成菲林灰雾度过高，同时高密达不到要求。推荐温度为34～36℃，并且要在显影温度稳定且达到设定温度时再测密度和做线性化。
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实体结构：布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模（Reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模（Mask）：当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。
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光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用***和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
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