
什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确***,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性***的一种结构,称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺,在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套(几块多至十几块)相互间能精i确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
内又称光掩模版、掩膜版,普通苏打铬板,英文名称 MASK 或 PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,大面积苏打铬板,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备***在感光胶上,被***的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似***后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影***,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:***,上海铬板,显影,去感光胶,***后应用于光蚀刻。
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