杭州半导体硅制氮设备
***壓吸附制氮裝置: 環境空***經壓縮淨化，除去油、水和灰塵後，進入由兩個裝填有碳分子篩的吸附塔組成的***壓吸附裝置。壓縮空***由下至***經吸附塔，其間氧***分子在碳分子篩表面吸附，氮***由吸附塔上端流出，進入粗氮緩衝罐。經一段時間後，吸附塔中碳分子篩被所吸附的氧飽和，需進行再生。再生是通過停止吸附步驟，降低吸附塔的壓力來實現的。兩吸附塔交替進行吸附和再生，從而確保氮***的連續輸出。
杭州半导体硅制氮设备 分为：深冷空分制氮装置，分子筛制氮装置，膜空分制氮。制氧机分为：深冷空分制氧装置，变压吸附制氧机，VPSA制氧装置。其中，制氮机是碳分子筛制氮为主。主要的方法为：以空气为原料，以碳分子筛作为吸附剂，运用变压吸附原理，利用碳分子筛对氧和氮的选择性吸附而使氮和氧分离的方法。碳分子篩概括的说：主要成分為元素碳，外觀為黑色柱狀固體。
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