公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
接触式光学微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸与实际复i制于基板上的图案为1:1的比例，以直接贴近于光阻层表面的方式进行***；而倍缩微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸则为实际复i制于基板上图案的数倍，光罩，经由光学系统投射的方式对光阻进行***。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻掩模板一般用石英玻璃作为基体，采用石英是由于其优良的近紫外透过率。
掩模板挡光部分用Cr，所以有时也叫铬板。
采用灯的g线或i线，取决于你所用的光刻胶，每种光刻胶产品说明都会列出其所敏感的光波段。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻版必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻版不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被复i制到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。然而，光刻版在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了保证光刻版洁净，必须定期对光刻版进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。
泰州光罩由苏州微麦光电有限公司提供。泰州光罩是苏州微麦光电有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：叶佳。
