苏州制版-苏州微麦光电(图)

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

接触式光学微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸与实际复i制于基板上的图案为1:1的比例，以直接贴近于光阻层表面的方式进行***；而倍缩微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸则为实际复i制于基板上图案的数倍，经由光学系统投射的方式对光阻进行***。

目前***范围内光刻掩膜版主要以***生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由***的生产商进行生产。

　　据统计：根据 SEMI， 目前***半导体光刻掩膜版市场规模近 34 亿美元，即 210 亿人民i币。未来光刻掩膜版市场增长速度将在 5%左右。2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元，2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元，规模较上年同期增长4.9%。

　　从我国光掩膜版的需求量来看，行业需求稳定增长，2016年需求量达到了7.98万平方米。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻版必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻版不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被复i制到硅片表面的光刻胶上，制版，造成器件性能的下降。然而，光刻版在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了保证光刻版洁净，必须定期对光刻版进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。