光刻板业内又称光掩模版、掩膜版，光刻板，光罩，英文名称 MASK 或 PHOTOMASK），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶。（感光胶又称光致抗蚀剂，是利用光化学反应进行图形转移的媒体性精细***，根据不同的用途性能等有多种型号，目前光掩模版大多数都是用的正性胶。光刻正性胶在经激光照射后，***区的邻重氮萘醌化合物发生光解反应重排成羧酸，使胶膜加速溶于稀碱水溶液。）把已设计好的电路图形通过电子激光设备***在感光胶上，被***的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似***后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影***，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：***，显影，去感光胶，***后应用于光蚀刻。 
苏州微麦光电-无锡光刻板由苏州微麦光电有限公司提供。苏州微麦光电-无锡光刻板是苏州微麦光电有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：叶佳。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
图形涨缩 即进行size操作，比如gate处的注入层，从gate size放大而来。完整的光掩膜图形中，除了对应电路的图形外，还包括一些辅助图形或测试图形，常见的有：游标，光刻对准图形，***量控制图形，测试键图形，光学对准目标图形，划片槽图形，和其他名称，版别等LOGO。
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在接触式光学微影技术中，光罩表面的遮光图案会与基板上的光阻层接触摩擦，容易使得遮光图案耗损使得光罩使用寿命缩短。另外，当涂布有光阻层的基板表面不是非常平整时，光罩与光阻层会产生不确定的空隙与距离，而造成光线的散射与绕射，进而造成***的尺寸误差，并且造成光阻层浅层部分的侧向***范围扩大，因而无法制作出高深宽比的光阻结构。
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